Kolloid szilícium-dioxid szuszpenzió 50nm

colloidal silica
colloidal silica

A kolloid sziliícium-dioxid szuszpenziót metallográfiai minták végső polírozásához használják. A szuszpenzió marószerekkel keverhető, ezzel még hatásosabbá téve a polírozás folyamatát. Száradásgátló adalékot tartalmaz, használat előtt felrázandó!

Szilícium-dioxid (silica) koncentráció: 585 g/l
Medián (50%): 50 nm
pH: 9,5 - 10,5
Elérhető kiszerelések: 1 l, 5 l

Gyártó

bővebben