Kolloid szilícium-dioxid szuszpenzió 50nm
A kolloid sziliícium-dioxid szuszpenziót metallográfiai minták végső polírozásához használják. A szuszpenzió marószerekkel keverhető, ezzel még hatásosabbá téve a polírozás folyamatát. Száradásgátló adalékot tartalmaz, használat előtt felrázandó!
Szilícium-dioxid (silica) koncentráció: | 585 g/l |
Medián (50%): | 50 nm |
pH: | 9,5 - 10,5 |
Elérhető kiszerelések: | 1 l, 5 l |