CIE 241 és CIE-H1 - az új napfényszimulációs referencia

A napsugárzás spektrumát és intenzitását (vagy a napsugárzás spektrális besugárzása) a légkör befolyásolja, illetve nagyban függ a helytől és időtől is.  A CIE Publication No. 85 Table 4, meghatározza a globális sugárzás (közvetlen és diffúz sugárzás) spektrális besugárzását a tengerszinten, amikor a Nap merőlegesen áll, és ezért pontosan "egy légkör" (AM 1.0 légtömeg) szűri azt meg. Az alábbi ábra például a napsugárzás spektrumának modellje az Egyenlítőnél, március 21-én délben, teljesen tiszta égbolttal (környezeti paraméterek: Ózon: 0,34 atm-cm; Vízpára: 1,42 atm-cm; Albedo: 0,2; Aeroszol Optikai Mélység - AOD 500 nm-en: 0,10).

 

A Nap pozíciója mikor csak egy légkör szűri (légtömeg AM 1,0)
 


CIE 85 Referencia Nap


1989-es publikációja óta a CIE Publication No. 85, Table 4 a környezeti tesztek számára referencia napként szolgált, ezt használták alapként a mesterséges fényforrások összevetéséhez és minősítéséhez. A CIE Publication No. 85 több szabványban is referenciaként szerepel, mint pl.: ISO 4892 és ISO 16474 mint a mesterséges fényforrások célértéke, hogy megfeleljenek a nappali fényviszonyoknak. Azonban ennek a referenciaspektrumnak is megvannak a saját korlátai:
  1)  A spektrális adatok 305 nm-ről indulnak, holott a napsugárzás 295 nm és 300 nm között van;
 2) Az adatok felbontása szegényes és nem egyenletes: 5 nm 305 nm-től 350 nm-ig; 10 nm 350 nm-től 550 nm-ig, illetve 550 nm fölött még nagyobb intervallumok.
 3)  A kalkulációs paraméterek ismertek, de a hozzájuk szükséges programkód többé nem elérhető. Az adatok létrehozására használt szoftvert sok évvel ezelőtt megszüntették, így nem volt mód a modellek újbóli létrehozására.

 

Az újrakalkulált spektrum: CIE 241


2014-ben a CIE Publication No. 85 Table 4-ben szereplő spektrális besugárzási eloszlást nagyobb felbontással (0,5 nm 400 nm-ig és 1 nm-es lépésekben 1700 nm-ig) újraszámították, és ISO/TR 17801 műszaki jelentésként tették közzé.

Az eredeti CIE 85-össel azonos bemeneti paramétereket és egy újabb számítási modellt (SMARTS 2.9.5) használó teljes újraszámítás 2020-ban jelent meg CIE 241 néven, amely 0,5 nm-es intervallumokat határoz meg a 280 nm és 400 nm közötti hullámhosszokra, 1,0 nm-es intervallumokat 1700 nm-ig, és 5 nm-es intervallumokat 4000 nm-ig.

Megjegyzés: A CIE 241 csak 5 nm-es felbontású adatokat tartalmaz, de az 1 nm-es felbontású adatok is letölthetők a CIE szerveréről.

A CIE 241 számos kalkulált spektrális besugárzási eloszlást tartalmaz. A környezetszimulációban alkalmazott a CIE-H1, mely mára a CIE 85:1989, Table 4 referencia nap hivatalos helyettesítője. A kapott értékek nagyon hasonlóak, de nem azonosak, elsősorban az eredeti adatok szegényes felbontása miatt. Az olyan általános környezetszimulációs szabványok, mint az ISO 4892-1 és az ISO 4892-3 esedékes felülvizsgálata során, már a CIE 241-hez és nem a CIE 85-höz viszonyítanak majd. Mivel a spektrumok közötti különbségek a mesterséges fényforrásokhoz képest csekélyek, ennek nincs technikai hatása a vizsgálati módszerekre és a vizsgálati körülményekre.

A CIE 85 és CIE 241 összevetése


Az alábbi táblázat a CIE 85 és CIE 241 (CIE-H1) napfényspektrumok besugárzásának összevetése:
 



A CIE 241 CIE-H1 és ISO/TR 17801 spektrális besugárzásának összevetése (a CIE 85 Table 4 alapján)

 

Környezetszimulációval és a vonatkozó készülékekkel kapcsolatban felmerülő kérdések/kérések esetén keressenek minket bizalommal!
 

Sinka Dániel

Sinka Dániel
Érétkesítési vezető
Telefon: +36 (1) 646 4539 
E-mail: sinka.daniel@atestor.hu

 
 

17. Nemzetközi Mocon Konferencia

Idén immár 17. alkalommal kerül megrendezésre a csomagolásvizsgálat témakörével foglalkozó Nemzetközi Mocon Konferencia, ezúttal a németországi Höhr-Grenzhausenben.

bővebben

Kérdezz-felelek Matt Kreiner termékmenedzserrel a Hitachi új, FT230 XRF készülékéről

Matt Kreiner a Hitachi bevonatelemző készülékeinek gyártásáért felelős termékmenedzser. Munkája során A Hitachi világszerte jelenlévő, különböző iparágakban tevékenykedő, bevonatokkal dolgozó felhasználói hálózatára fókuszál és igyekszik új megoldásokat találni azokra a kihívásokra, melyekkel a partnerek a napi munka során szembesülnek. A cégnél töltött 19 éve során jelentős tapasztalatot szerzett az XRF technológiával kapcsolatban és számos különböző szerepben próbálhatta ki magát.

bővebben

Új keménységmérővel bővült cégünk tesztkapacitása

Cégünk egyik fontos projektje a testORG, melynek keretében nem csupán a hazai laboratóriumok tesztkapacitását igyekszünk összefogni és egyszerűen elérhetővé tenni partnereink számára, de egyben saját laboratóriumunk eszközparkját és mérőkapacitását is folyamatosan növeljük. A már meglévő eszközök mellé nemrég sikerült beszereznünk egy új Innovatest Falcon 600 keménységmérőt, mely várhatóan fontos részét képezi majd a repertoárunknak. Az alábbiakban a készülékről találhatnak néhány alapvető információt.

bővebben

A tisztaságvizsgálat főbb típusai

A felület tisztasága szinten minden felületkezelő gyártási eljárás, bevonatfelvitel előtt kritikusan fontos. A szennyeződések forrása szerteágazó. Olajmaradék egy gyártó gépből, lerakódások, salakok a gyártási eljárásból, hűtő- és korróziógátló folyadékok, korróziós lerakódások, vagy akár emberi érintésből származó szennyeződés olyan sokszor láthatatlan problémát okoz, ami nehezíti a felületkezelők munkáját. Az ilyen szennyezők ronthatják a bevonat tapadását, a felület egyenletességét, némely esetben korrózióhoz, vagy mechanikai meghibásodásokhoz vezethetnek. Az alapanyagtól, a termék méretétől, az alkalmazás típusától függően számost tisztítási eljárást találunk, de hogy történik ezeknek a minőség ellenőrzése?

bővebben

Sópermet szeminárium igényfelmérés

A korábbi években cégünk rendszeresen szervezett különböző elméleti és gyakorlati szemináriumokat különböző méréstechnikai területekkel, vizsgálati kihívásokkal kapcsolatban, a fókusz pedig több alkalommal is a sópermet teszteken és a korrózióvizsgálaton volt. A tendenciát elsősorban a COVID-járvány okozta korlátozások és biztonsági intézkedések szakították meg, de szándékaink szerint ismét a személyes találkozás és a csoportos szemináriumok terepére lépnénk.

bővebben

Metallográfiai csomagok mintaelőkészítéshez

Cégünk gyakran találkozik olyan megkeresésekkel, melyek a metallográfiai mintaelőkészítési megoldásokra vonatkoznak. Mivel kínálatunkban készülékek és fogyóanyagok egyaránt megtalálhatók, mindig örömmel segítünk partnereinknek. Ez sokszor trükkös feladat, hiszen ahány anyagtípus, annyiféle ideális mintaelőkészítési megoldás, mi pedig mindig igyekszünk a leginkább személyre szabott, a végletekig optimalizált megoldást kínálni. Ennek szellemében állítottuk össze legújabb csomagajánlatainkat, melyekben metallográfiai készülékeket és teljes metallográfiai sorokat kínálunk kedvező áron! A készülékek természetesen csak a folyamat egyik részét képezik, anyag- és mintatípustól függően különböző fogyóanyagokra is szükség lehet, melyet egyedi ajánlat alapján szintén biztosítani tudunk. Ha felkeltettük érdeklődését, keressenek minket megadott elérhetőségeink valamelyikén és találjuk meg együtt a legideálisabb mintaelőkészítési megoldást!  

bővebben